Keramik bas PCB

Keramik bas PCB
Detaljer:
Keramiska bas-PCB är en speciell typ av kretskort som använder keramiska material som bas och är belagda med ett ledande metallskikt (vanligtvis koppar eller aluminium) på ytan.
Skicka förfrågan
Beskrivning
Skicka förfrågan

Keramiska bas-PCB är en speciell typ av kretskort som använder keramiska material som bas och är belagda med ett ledande metallskikt (vanligtvis koppar eller aluminium) på ytan. De används huvudsakligen för att stödja elektroniska komponenter med hög-effekt och hög-frekvens. Genom att kombinera keramernas utmärkta värmeledningsförmåga, elektriska isolering och hög-temperaturbeständighet med metallskiktets goda elektriska ledningsförmåga, har keramiska substrat blivit kärnkomponenter i-avancerad elektronisk utrustning som nya energifordon, solcellsväxelriktare, 5G-basstationer och halvledarmoduler med hög{{7} effekt.
Typerna av keramiska substrat kan klassificeras utifrån två huvudperspektiv: material och tillverkningsprocesser.

 

Designator Koda Artikelnummer Tillverkare Kvantitet      
C1, C4, C20, C182, C191 NP0-0402-50 V-100 pF±5 %     5 250 500  
C2, C92, C99, C100, C101, C102, C103, C104 X5R-0402-50 V-220 nF+-10 %     8 400    
C3, C6, C7, C8, C11, C24, C25, C26, C27, C28, C30, C31, C34, C37, C47, C51, C52, C53, C54, C55, C68, C69, C70, C71, C79, C80, C84, C93, C94, C95, C96, C97, C98, C107, C108, C110, C112, C114, C115, C123, C124, C127, C130, C135, C138, C140, C142, C145, C152, C153, C154, C155, C156, C157, C158, C159, C160, C161, C166, C168, C171, C173, C181, C184, C185, C186, C187, C188, C189, C190 X7R-0402-50 V-100 nF+-10 %     70 3500 7000  
C5, C9, C10, C91 X7R-0402-50 V-1 nF+-10 %     4 200 400  
C21, C22, C23 X7R-0402-25 V-1 µF+-10 % GRM155R61E105KA12D   3 450 300  
C29, C42 X7R-0402-50 V-220 pF+-10 %     2 300 800 200
C32, C33, C35, C36 X5R-0201-10 V-100 nF+-10%     4 200 400 -20%
C38, C39, C40, C41, C46, C56 X7R-0402-6,3 V-1 µF+-10 %     6 300 600  
C43, C44, C45, C63 X5R-0805-6,3 V-47 µF±20 %     4 200 400  
C48, C49, C50, C67 X5R-0603-10 V-22 µF+-10 %     4 200 400 -20%
C57, C58, C59, C167 NP0-0402-50 V-22 pF±5 %     4 200 400  
C60, C61, C62, C64, C65, C66, C169, C170, C183 X5R-0603-6,3 V-22 µF±20 %     9 450 900  
C72, C73, C74, C172, C175 X7R-0402-50 V-10 nF+-10 %     5 250 500  
C75, C76, C77, C78 X7R-1206-50 V-10 µF+-10 %     4 200 400  
C81, C90 X7R-0402-50 V-22 nF+-10 %     2 300 200  
C82, C83, C163, C164, C178, C179 X6S-0402-16 V-1 µF+-10 %     6 300 600  
C85 X5R-0402-6,3 V-4,7 µF+-20 %     1 150 100  
C86 NP0-0603-50 V-47 pF+-5 %     1 150 100  
C87, C88, C89 X7R-1210-10 V-47 µF+-10 %     3 150 300  
C105, C106, C109, C111, C149, C150 NP0-0402-50 V-33 pF±5 %     6 300 600  
C113, C116, C117, C118, C119, C120, C121, C122, C125, C126, C128, C129, C131, C132, C133, C134, C136, C137, C139, C141, C143, C144, C146, C162, C165, C180 X5R-0402-6,3 V-10 µF+-20 %     26 1300 2600  
C147   10TPB220M Panasonic 1 100    
C148 X5R-1210-16 V-100 µF±20 %     1 50 100  
C151 X7R-0805-16 V-2,2 µF+-10 %     1 150 100  
C174 X7R-1210-50 V-4,7 µF+-10 %     1 50 100  
C176, C177   EEEFK1H470XP Panasonic 2 200    
C192 NP0-0402-50 V-220 pF+-5 %     1 150 100  
DA1, DA2, DA3   SGM2576YN5G/TR SGMicro 3 300    
DA4, DA5, DA6, DA10   SY98003AQNC Silergi 4 400    
DA7, DA8   LD39050PUR STMicroelectronics 2 200    
DA9   MPQ4316GRE-AEC1 MPS 1 100    
DA11   LM74800QDRRRQ1 Texas Instruments 1 100    
DA12   SY8089AAC Silergi 1 100    
DA13   LP5907MFX-1.2/NOPB Texas Instruments 1 100    
DD1   2N7001TDPWR Texas Instruments 1 100    
DD2   FUSB302BMPX Onsemi 1 100    
DD3   MCP2542FDT-H/MF Mikrochipteknik 1 100    
DD4   XS9922B Chipup 1 100    
DD6   MS1836S Makrokisel 1 100    
DD7   PCA9617ADPJ Nexperia 1 100    
FB1, FB14   BLM18PG121SN1D Murata 2 100 200  
FB2, FB3   BLM18KG121TN1 Murata 2 100 200  
FB4, FB5, FB6, FB7, FB8, FB9, FB10   BLM18EG601SN1D Murata 7 350 700  
FB11   FBMH1608HM101-T Taiyo 1 50 100  
L1   SPM5030T-4R7M-HZ Vishay 1 50 100  
L2   LQM2HPN2R2MGSL Murata 1 50 100  
MP1, MP2, MP3, MP4   9774020633R VI 4 400    
MP5, MP6, MP7, MP8   9774050243R VI 4 400    
R1, R3, R26, R126 0402-100 Ω+-1 %     4 200 400  
R2, R4, R5, R6, R12, R13, R15, R46, R105, R146, R151, R153, R161, R168, R177, R178, R185, R186, R187, R188, R189, R190, R191, R192, R196, R197, R198, R199, R202, R205, R214, R215, R216, R217, R218, R219, R220, R221, R222, R223, R224 0402-0 Ω+-5 %     41 2050 4100  
R7 0402-12 Ω+-1 %     1 150 100  
R8, R16, R38, R50, R61, R70, R71, R109 0402-1 kΩ+-1 %     8 400 800  
R9 0603-1 kΩ+-1 %     1 150 100  
R10, R179, R180, R181 0603-1,5 kΩ+-1 %     4 200 400  
R17, R36, R37, R47, R58, R62, R66, R72, R73, R83, R111, R112, R204, R227 0402-10 kΩ+-1 %     14 700 1400  
R22, R24, R48, R85, R86, R88, R99, R106, R107, R121, R122, R125, R127, R128, R129, R130, R131 0402-100 kΩ+-1 %     17 850 1700  
R25, R59, R90, R108, R123 0402-20 kΩ+-1%     5 250 500  
R27, R28, R30, R31, R32, R33, R34, R35 0402-590 Ω+-1 %     8 400 800  
R29 0402-27 kΩ+-1 %     1 150 100  
R39, R40 0402-1,8 kΩ+-1 %     2 300 200  
R41, R42, R43 0402-47 kΩ+-1 %     3 450 300  
R44 0402-1,2 kΩ+-1 %     1 150 100  
R45 0603-120 Ω+-5 %     1 150 100  
R49 0402-8,2 kΩ+-1 %     1 150 100  
R52, R94, R95, R113, R120 0603-0 Ω+-5 %     5 250 500  
R56, R57 0603-5,1 kΩ+-1 %     2 300 200  
R60, R63, R64, R65 0402-2,2 Ω+-1 %     4 200 400  
R67, R82, R91, R124 0402-2,2 kΩ+-1%     4 200 400  
R68, R69, R76, R77, R78, R79, R80, R81, R92, R93, R132 0402-100 kΩ+-5 %     11 550 1100  
R74, R75, R84, R133, R138, R139, R140, R141, R149, R150, R167, R172, R174, R176, R183, R184, R193, R194, R195, R229, R230 0402-4,7 kΩ+-1 %     21 1050 2100  
R87 0402-31,6 kΩ+-1 %     1 150 100  
R89 0402-120 kΩ+-1 %     1 150 100  
R96 0402-4,3 kΩ+-1 %     1 150 100  
R97 0402-75 kΩ+-1 %     1 150 100  
R98 0402-51 kΩ+-1 %     1 150 100  
R100, R102 0402-39 kΩ+-1 %     2 300 200  
R101 0402-15 kΩ+-1 %     1 150 100  
R103 0402-30 kΩ+-1 %     1 150 100  
R110 0402-330 Ω+-1 %     1 150 100  
R115, R116 0603-1,8 kΩ+-1 %     2 300 200  
R119, R147 0402-75 Ω+-1 %     2 300 200  
R135, R136 0402-0 Ω+-1 %     2 300 200  
R148 0402-10 Ω+-1 %     1 150 100  
R152 0402-22 Ω+-1 %     1 150 100  
R154 0402-1 MΩ+-1 %     1 150 100  
R160 0402-4,02 kΩ+-1 %     1 150 100  
R169, R170 0805-0,033 Ω+-1 %     2 300 200  
R182 0402-1 kΩ+-5 %     1 150 100  
SB1, SB2   B3U-3000P Omron 2 200    
VD1, VD17   ESD5Z2.5T1G PÅ Halvledare 2 200    
VD2   SMBJ40CA-TR STMicroelectronics 1 100    
VD3, VD10, VD19   GNL-0603GC G-nor 3 300    
VD4, VD18   GNL-0603EC G-nor 2 200    
VD5, VD8   MBR0540 Hottech 2 200    
VD6, VD7, VD12, VD13   ESD73034D Tech Public 4 400    
VD9   SMF05C.TCT Semtech 1 100    
VD14, VD16, VD21   PRTR5V0U2AX,215 Nexperia 3 300    
VD20   GNL-0603UYOC G-nor 1 100    
VT1, VT3, VT4, VT5, VT7   2N7002DW Hottech 5 500    
VT2, VT6   WNM6002-3/TR Willsemi 2 200    
VT8, VT9   WMQ30N06TS Wayon 2      
VT10   IRLML2502 UMW 1 100    
XP1, XP2, XP3, XP4, XP7, XP12, XP13, XP14, XP15   SM03B-SRSS-TB JST 9 900    
XP5, XP11   SM04B-SRSS-TB JST 2 200    
XP6, XP10   SM05B-SRSS-TB JST 2 200    
XP8, XP9   SM06B-SRSS-TB JST 2 200    
XS2, XS3, XS4, XS5   AXK5F80547YG Panasonic 4 400    
XS6   10118241-001RLF Amfenol 1 100    
XS8, XS9   1054500101 Molex 2 200    
XS11   1759503-1 TE-anslutning 1 100    
XS12   5034802400 Molex 1 100    
XS13   245804030000829+ Kyocera AVX 1 100    
ZQ1, ZQ2   X322527MOB4SI YXC 2 200    

 

Klassificering efter keramiskt material

 

 

Detta är den mest grundläggande klassificeringsmetoden, eftersom olika material bestämmer substratets nyckelegenskaper.

Aluminiumoxid (Al2O3)-substrat

För närvarande det mest använda keramiska substratmaterialet inom elektronikindustrin. De erbjuder utmärkt övergripande prestanda, hög mekanisk hållfasthet, god kemisk stabilitet, rikligt med råmaterial och relativt låg kostnad. De används i stor utsträckning inom mikroelektronik, kraftelektronik och hybridmikroelektronik.

Substrat av aluminiumnitrid (AlN).

Kännetecknas av extremt hög värmeledningsförmåga (typiskt större än eller lika med 170 W/(m·K)) och en värmeutvidgningskoefficient som är väl anpassad till kiselchips, vilket gör dem till ett idealiskt val för högpresterande applikationer för termisk hantering. De kräver dock mycket hög materialrenhet och strikt processkontroll.

Silikonnitrid (Si3N4)-substrat

Även om de nämns utan detaljerad förklaring i källmaterialet, är de allmänt kända för sin utmärkta mekaniska hållfasthet och värmechockbeständighet, vilket gör dem lämpliga för applikationer med höga krav på tillförlitlighet.

Berylliumoxid (BeO) substrat

Har till och med högre värmeledningsförmåga än metalliskt aluminium, men deras tillämpning är strikt begränsad på grund av materialets toxicitet.

 

Klassificering efter tillverkningsprocess

 

 

Olika tillverkningsprocesser bestämmer strukturen, prestanda och kostnaden för substratet och är nyckelfaktorer för att särskilja produkttyper.

HTCC (High-Temperature Co-Fired Ceramic)

Sintrad vid höga temperaturer på 1300–1600 grader, med hög-smältpunkt-metaller som volfram och molybden som ledare. Processen är mogen, men kostnaden är relativt hög och den elektriska ledningsförmågan hos metallskikten är relativt dålig.

01

LTCC (Low-Temperature Co-Fired Ceramic)

Sintrad vid 850–900 grader, vilket möjliggör användning av metaller med bättre elektrisk ledningsförmåga som silver, guld och koppar. Den kan realisera komplexa flerskiktsstrukturer och är lämplig för hög-högfrekventa och mycket integrerade moduler.

02

DBC (Direct Bonded Copper)

Kopparfolie är direkt bunden till det keramiska substratet genom en eutektisk process med hög-temperatur. Den har låg termisk resistans, hög ström-bärförmåga och hög tillförlitlighet, vilket gör det till ett av de vanligaste keramiska substraten för hög-enheter idag.

03

DPC (direkt pläterad koppar)

Använder tunn-filmprocessteknik för att direkt galvanisera koppar på ytan av det keramiska substratet för att bilda kretsmönster. Den möjliggör hög precision och fina linjebredder och har utvecklats snabbt de senaste åren och blivit en allmänt tillämpad teknologi.

04

LAM (laseraktiverad metallisering)

Använder laserteknik för att bilda fina metallkretsar på den keramiska ytan, vilket gör den lämplig för hög-precision och miniatyriserade enheter.

05

 

Keramiska baskretskort har följande huvudegenskaper:

 

Särdrag

 

 

Hög värmeledningsförmåga

Keramiska substrat har relativt hög värmeledningsförmåga. Till exempel är värmeledningsförmågan för ett keramiskt substrat av aluminiumoxid 25–35 W/(m·K), medan den för ett keramiskt substrat av aluminiumnitrid kan nå 170–230 W/(m·K). Denna höga värmeledningsförmåga ger keramiska substrat utmärkt värmeavledningsprestanda, vilket gör dem särskilt lämpliga för elektroniska enheter med hög-effekt.

Hög mekanisk styrka och stabilitet

Keramiska underlag har hög hållfasthet och hårdhet och kan bibehålla stabilitet i tuffa miljöer. Deras värmeutvidgningskoefficient är nära den för kisel, vilket förenklar tillverkningsprocessen för kraftmoduler. Dessutom presterar keramiska substrat bra under kraftiga temperaturfluktuationer och uppvisar tillförlitlig termisk cyklisk prestanda, med cykler som når upp till 50 000.

Utmärkt isoleringsförmåga

Keramiska substrat uppvisar utmärkt isoleringsförmåga och är lämpliga för applikationer som kräver hög dielektrisk hållfasthet. De har en låg dielektricitetskonstant och goda-högfrekvensegenskaper, vilket gör dem väl lämpade för hög-kretsar.

Utmärkt kemisk stabilitet

Keramiska substrat uppvisar enastående kemisk stabilitet och kan bibehålla överlägsen prestanda i oxidativa eller korrosiva miljöer med hög -temperatur. De korroderas inte lätt.

 

Strukturera

 

 

Grundstrukturen hos ett keramiskt substrat består typiskt av ett keramiskt basmaterial, ett metallskikt och ett adhesivskikt. Närmare bestämt hänvisar ett keramiskt substrat till en speciellt bearbetad skiva i vilken kopparfolie är direkt bunden till ytan av ett aluminiumoxid (Al2O3) eller aluminiumnitrid (AlN) keramiskt substrat vid höga temperaturer. Detta ultra-tunna kompositsubstrat har utmärkt elektrisk isolering, hög värmeledningsförmåga, överlägsen lödbarhet och stark vidhäftning. Dessutom kan den etsas in i olika mönster som ett konventionellt kretskort och erbjuder hög ström-kapacitet.

 

Detaljerade strukturer av olika typer av keramiska substrat

High-Temperature Co-Fired Ceramic (HTCC)

Produktionskostnaden för denna typ av substrat är relativt hög, och dess värmeledningsförmåga sträcker sig i allmänhet från 20 till 200 W/(m·K), beroende på det keramiska pulvrets sammansättning och renhet.

01

Låg-Temperature Co-Fired Ceramic (LTCC)

Glasmaterial med låg-smältpunkt-tillsätts till aluminiumoxidpulver, vilket möjliggör användning av mycket ledande metaller som guld och silver som elektrod- och ledningsmaterial.

02

Tjockt-filmtryckt keramiskt substrat (TPC)

Den här typen av substrat tillverkas med en screen-utskriftsprocess och har en enkel tillverkningsprocedur. Den är lämplig för förpackning av elektroniska enheter med låga krav på kretsnoggrannhet, såsom elektroniska moduler för bilar.

03

Direkt bunden koppar (DBC) keramiskt substrat

Under höga-temperaturförhållanden binds kopparfolien och det keramiska substratet fast genom en eutektisk bindningsprocess, vilket resulterar i hög bindningsstyrka och utmärkt värmeledningsförmåga. Det används ofta för värmeavledning i enheter som bipolära transistorer med isolerad grind (IGBT) och laserkomponenter.

04

Aktivt metalllödning (AMB) keramiskt substrat

Denna typ av substrat uppnår bindning mellan det keramiska substratet och kopparfolien genom lod som innehåller aktiva eller sällsynta-jordartsämnen. Den erbjuder hög bindningsstyrka och tillförlitlighet och är lämplig för förpackningsapplikationer med hög-densitet.

05

 

Ansökan

 

 

1. Inom elektronikområdet är keramiska substrat idealiska bärare för elektroniska komponenter som integrerade kretsar, kraftmoduler och RF-enheter. Med hög hållfasthet, hög hårdhet, hög slitstyrka, utmärkt isoleringsprestanda och termisk stabilitet säkerställer de stabil drift och effektiv signalöverföring i elektronisk utrustning. Tillämpningar av keramiska substrat inkluderar, men är inte begränsade till, hög-halvledarmoduler, effektstyrkretsar, hög-omkopplingsströmförsörjning, halvledarreläer, fordonselektronik, flyg- och militärelektronik och solpaneler.
2. Inom kommunikationsområdet kan keramiska substrat tillverkas till komponenter såsom mikrovågsfilter, antenner, effektdelare, kopplare och isolatorer. Dessa komponenter spelar en avgörande roll i kommunikationssystem och erbjuder utmärkt mekanisk styrka och värmeledningsförmåga.
3. Inom optikområdet används keramiska substrat som baser för lasrar, vilket ger god värmeledningsförmåga och mekanisk styrka. De används också för att tillverka olika komponenter för fiber-optisk kommunikation, såsom våglängdsmultiplexorer och polarisationskontroller.
4. Inom det medicinska området används keramiska substrat i stor utsträckning i-avancerad medicinsk utrustning, inklusive biomedicinska sensorer och konstgjorda organ, på grund av deras utmärkta biokompatibilitet och kemiska stabilitet. Till exempel kan keramiska substrat användas för att tillverka konstgjorda leder och dentala restaureringsmaterial, som erbjuder god biokompatibilitet och estetiska egenskaper.
5. Inom flyg- och rymdområdet används keramiska substrat för att tillverka motorkomponenter, termiska barriärbeläggningar, förbränningskammarfoder och rymdfarkostsdelar. Med hög hållfasthet, strålningsbeständighet och hög-temperaturbeständighet ger de tillförlitligt stöd i extrema miljöer, vilket säkerställer stabil systemdrift under hög-hastighet, hög-temperatur och hög-strålningsförhållanden.
6. Vårt företags keramiska substratprodukter inkluderar flerlagers keramiska PCB och 5G PCB-antenner.

 

Skräddarsydd produkt

 

 

De flesta av våra produkter är skräddarsydda baserat på de ursprungliga Gerber-filerna från våra kunder.
Efter att ha mottagit de ursprungliga Gerber-filerna konverterar vi dem till fungerande Gerber-filer för produktionsanvändning.
Under den här konverteringsprocessen justerar vi vissa parametrar-som håldiameter, spårbredd och spåravstånd-för att optimera tillverkningsbarheten och säkerställa smidig produktion.

 

Paket och garanti

 

 

Alla våra produkter är vakuum-förpackade med torkmedel för att säkerställa optimalt skydd under lagring och transport.
Hållbarheten för vakuum-förpackade kretskort varierar beroende på ytbehandlingsprocessen, vanligtvis från 3 till 12 månader. Detaljerna är följande:

Hållbarhet för olika ytbehandlingsprocesser

 

ENIG (Electroless Nickel Immersion Gold)

Kan förvaras i upp till 12 månader under vakuumförpackning med torkmedelsskydd.

 
 

Bly-gratis HASL (Hot Air Solder Leveling)

När inga speciella lagringsjusteringar görs är hållbarheten vanligtvis cirka 3 månader.

 
 

OSP (organisk lödbarhetskonservering)

Har en hållbarhet på 3–6 månader under vakuumförpackning med torkmedelsskydd. Men om den förvaras felaktigt (t.ex. utan torkmedel eller med otillräcklig vakuumförsegling), kan hållbarheten förkortas till cirka 3 månader.

 
 

Immersion Gold (kemisk guldplätering)

Hållbarheten kan uppgå till 6–12 månader, förutsatt att förseglade förpackningar och torkmedel används.

 

 

Företagsfördel

 

 

1. Vi garanterar svar inom 24 timmar på alla kundförfrågningar och klagomål.
2. Vår fabrik erbjuder 1-dags provproduktion för 2-lagerskivor och tillhandahåller snabba tillverkningstjänster för små och medelstora beställningar, vilket säkerställer korta ledtider och leverans i tid.
3. Vi stöder flera betalningsalternativ, inklusive EUR, USD, RUB och CNY, via PayPal, T/T och andra praktiska metoder.

 

Populära Taggar: keramik bas PCB, Kina keramik bas PCB tillverkare, leverantörer

Skicka förfrågan